| 出典: フォトレジスト 『フリー百科事典 ウィキペディア日本語版(Wikipedia)』 最終更新 2019年6月10日 (月) 10:54 UTC、URL: https://ja.wikipedia.org/ フォトレジスト（英語：photoresist）とは、フォトリソグラフィにおいて使用される、光や電子線等によって溶解性などの物性が変化する組成物である。物質の表面に塗布され、後に続くエッチングなどの処理から物質表面を保護することから、「レジスト」 (resist) の名がある。しかしながら、現在では、感光性を有し、画像様露光・現像によりパターニングを行って表面に画像層を形成することができる物質であればフォトレジストと呼ばれ、必ずしも保護の働きがあるとは限らない。 ・・・ |
| 出典: レジスト 『フリー百科事典 ウィキペディア日本語版(Wikipedia)』 最終更新 2019年7月1日 (月) 03:29 UTC、URL: https://ja.wikipedia.org/ レジストとは、主に工業用途で使用される、物理的、化学的処理に対する保護膜、及びその形成に使用される物質である。諸般の製造過程で、サンドブラスト、イオン注入、エッチングなどの処理を施す際、被処理物表面の一部を樹脂などで保護し、処理をしたあとに保護膜を剥離することで、被処理物の所望の部分のみを処理することができる。この手法に使われる保護膜をレジストという。処理に耐える (resist) 事からこの名がついた。 [フォトレジスト（パターニング方法による分類）] 感光性を持ち、フォトリソグラフィ工程で使用されるレジスト。大量生産される製品に使用されるレジストは、ほとんどがフォトレジストである。一般的な使用方法としては、スピンコーターやスリットコーター等で薄膜状に塗布し、光や電子線を部分的に照射して溶解性を変化させ、その後現像によって不要な部分を除去する。製版、プリント基板、半導体ウェハーなどの製造に使用される。 ・・・ [スクリーン印刷レジスト（塗布・パターニング方法による分類）] スクリーン印刷を用いてパターニングされるレジスト。露光・現像・リンスといった工程を経るフォトリソグラフィに比して、直接必要な部分にのみ樹脂を印刷するため、比較的無駄が少なくまた大面積にも対応し易い。 [エッチングレジスト（用途による分類）] ・・・ |
| 同義語・類義語 | 関連語・その他 |
|---|---|
| resist | JSR |
| rizíst | フォトリソグラフィ |
| リズィストゥ | 感光材 |
| リゼストゥ | 住友化学 |
| レジスト | 東京応化工業 |
| ・ | 富士フィルム |
| エッチング・レジスト | ・ |
| スクリーン印刷レジスト | resist |
| photoresist | rizíst |
| フォト・レジスト | リズィストゥ |
| レジスト | |
| [他動詞] | |
| ～に抵抗する | |
| ～に耐える | |
| ～に侵されない | |
| [名詞] | |
| レジスト | |
| 保護膜 | |
| 更新日:2022年 2月 9日 |