| 出典: CPUの冷却装置 『フリー百科事典 ウィキペディア日本語版(Wikipedia)』 最終更新 2020年10月12日 (月) 17:22 UTC、URL: https://ja.wikipedia.org/ CPUの冷却装置（シーピーユーのれいきゃくそうち）の記事では専ら、「CPUクーラー」と呼ばれているパソコンのCPUの冷却およびその装置について解説する。 [空冷] 強制冷却 冷却ファンを使用し空気を利用して冷却する、最も一般的な方法。ヒートシンクの上に冷却ファンを載せた状態で使用され、ヒートシンクとファンモータが一体化したものが多い。 店頭で販売されているCPU製品にはサーマル・ソリューションと称して、十分な性能の強制空冷式冷却装置が付属している。特に記述がない限り市販されているパーソナルコンピュータにおいて、CPUの冷却にはこの方式が用いられる。 ・・・ |
| 出典: き・そう【気相】『新村 出編 広辞苑 第五版 CD-ROM版 岩波書店』 物質が気体となっている状態。 |
| 出典: ヒートスプレッダ 『フリー百科事典 ウィキペディア日本語版(Wikipedia)』 最終更新 2016年10月25日 (火) 14:05 UTC、URL: https://ja.wikipedia.org/ ヒートスプレッダ（英語：heat spreader）は、正式にはインテグレーテッド ヒート スプレッダ（integrated heat spreader、略称：IHS）と呼ばれ、発熱体と放熱器の間に挿入することで緩衝体として放熱効率を高めるための構造を言う。主な用途として、LSIの放熱が挙げられる。 ・・・ |
| 出典: 化学気相成長 『フリー百科事典 ウィキペディア日本語版(Wikipedia)』 最終更新 2013年11月1日 (金) 16:54 UTC、URL: https://ja.wikipedia.org/ 化学気相成長（かがくきそうせいちょう）、化学気相蒸着（かがくきそうじょうちゃく）または化学蒸着（CVD: chemical vapor deposition）は、さまざまな物質の薄膜を形成する蒸着法のひとつで、石英などで出来た反応管内で加熱した基板物質上に、目的とする薄膜の成分を含む原料ガスを供給し、基板表面あるいは気相での化学反応により膜を堆積する方法である。常圧（大気圧）や加圧した状態での運転が可能な他、化学反応を活性化させる目的で、反応管内を減圧しプラズマなどを発生させる場合もある。切削工具の表面処理や半導体素子の製造工程において一般的に使用される。 ・・・ |
| 同義語・類義語 | 関連語・その他 |
|---|---|
| CPUクーラー | シンク |
| CPUヒートシンク | シ́ンク |
| Heat Sink | [自動詞] |
| hiːt síŋk | 下降する |
| ヒートゥ・シィンク | [他動詞] |
| ヒ́ートゥ・シィ́ンク | ～を下げる |
| ヒート シンク | [名詞] |
| ヒート・シンク | 台所の流し |
| ヒートシンク | 流し台 |
| Heatsink | ・ |
| ウィック | Heat Pipe |
| 簡易水冷クーラー | hiːt páip |
| 水冷クーラー | ヒート・パイプ |
| 吸熱器 | 液化 |
| 放熱器 | 作動液 |
| 放熱板 | 蒸発 |
| CPUの冷却装置 | 毛細管現象 |
| ・ | クーラー |
| ・ | |
| heat spreader | |
| híːt sprédər | |
| ヒートゥ スプレダゥァー | |
| 【 以下関連語 】 | ヒートゥ・スプレダゥァー |
| heat | ヒ́ートゥ・スプレ́ダゥァー |
| hiːt | ヒート スプレッダー |
| ヒートゥ | ヒート・スプレッダー |
| ヒ́ートゥ | ヒ́ート・スプレッ́ダー |
| ヒート | ・ |
| ヒ́ート | IHS |
| [名詞] | integrated heat spreader |
| 熱 | íntəgrèitəd hiːt sprédər |
| 熱源 | イェンテグレイデドゥ ヒートゥ スプレダゥァー |
| 高温 | イェンテグレイデドゥ・ヒートゥ・スプレダゥァー |
| [自動詞] | イェ́ンテグレ̀イデドゥ・ヒ́ートゥ・スプレ́ダゥァー |
| 熱くなる | インテグレーテッド ヒート スプレッダー |
| ・ | インテグレーテッド・ヒート・スプレッダー |
| Sink | イ́ンテグレ̀ーテッド・ヒ́ート・スプレッ́ダー |
| síŋk | |
| シィンク | |
| シィ́ンク | |
| 更新日:2024年11月 3日 |
| 同義語・類義語 | 関連語・その他 |
|---|---|
| CVD | vapor |
| síː ví: díː | véipər |
| シィー ヴィー ディー | ヴェイパゥァー |
| シィ́ー ヴィ́ー ディ́ー | ヴェ́イパゥァー |
| シー ブイ ディー | ヴェイパー |
| シ́ー ブ́イ ディ́ー | ヴェ́イパー |
| ・ | [名詞] |
| Chemical Vapor Deposition | 気化ガス |
| kémikəl véipər dèpəzíʃən | きかガス |
| ケミカゥルゥ ヴェイパゥァー デパジィシュョン | 霧 |
| ケミカゥルゥ・ヴェイパゥァー・デパジィシュョン | ガス |
| ケ́ミカゥルゥ・ヴェ́イパゥァー・デ̀パジィ́シュョン | 蒸発 |
| ケミカル ヴェイパー デポジション | 水蒸気 |
| ケミカル・ヴェイパー・デポジション | [自動詞] |
| ケ́ミカル・ヴェ́イパー・デ̀ポジ́ション | 蒸発する |
| 化学気相成長 | ・ |
| かがく きそう せいちょう | Deposition |
| 化学気相成長法 | dèpəzíʃən |
| 化学気相堆積 | デパジィシュョン |
| かがく きそう たいせき | デ̀パジィ́シュョン |
| 化学蒸着 | デポジション |
| 化学気相蒸着 | デ̀ポジ́ション |
| かがく きそう じょうちゃく | [名詞] |
| ・ | 沈殿 |
| ちんでん | |
| 【 以下関連語 】 | 沈殿物 |
| MOCVD | 堆積 |
| アトミック・レイヤーCVD | たいせき |
| アモルファス・シリコン薄膜 | 堆積物 |
| エピタキシャルCVD | |
| シリコン酸化膜 | |
| シリコン窒化膜 | |
| シリコン薄膜 | |
| プラズマCVD | |
| 有機金属気相成長法 | |
| 光CVD | |
| 光シーブイディー | |
| 熱CVD | |
| 熱シーブイディー | |
| ・ | |
| 更新日:2024年11月19日 |
| 同義語・類義語 | 関連語・その他 |
|---|---|
| IHS | heat |
| integrated heat spreader | híːt |
| íntəgrèitəd hiːt sprédər | ヒートゥ |
| イェンテグレイデドゥ ヒートゥ スプレダゥァー | ヒ́ートゥ |
| イェンテグレイデドゥ・ヒートゥ・スプレダゥァー | ヒート |
| イェ́ンテグレ̀イデドゥ・ヒ́ートゥ・スプレ́ダゥァー | ヒ́ート |
| インテグレーテッド ヒート スプレッダー | [名詞] |
| インテグレーテッド・ヒート・スプレッダー | 熱 |
| イ́ンテグレ̀ーテッド・ヒ́ート・スプレッ́ダー | 熱源 |
| ・ | 高温 |
| heat spreader | [他動詞] |
| híːt sprédər | ～を暖める |
| ヒートゥ スプレダゥァー | [自動詞] |
| ヒートゥ・スプレダゥァー | 暖まる |
| ヒ́ートゥ・スプレ́ダゥァー | 熱くなる |
| ヒート スプレッダー | ・ |
| ヒート・スプレッダー | spreader |
| ヒ́ート・スプレッ́ダー | sprédər |
| ヒートスプレッダー | スプレダゥァー |
| ・ | スプレ́ダゥァー |
| スプレッダー | |
| スプレッ́ダー | |
| [名詞] | |
| 拡散器 | |
| 広げる用具 | |
| ・ | |
| Heat Pipe | |
| hiːt páip | |
| ヒートパイプ | |
| 【 以下関連語 】 | 作動液 |
| Integrated | 蒸発 |
| íntəgrèitəd | 毛細管現象 |
| イェンテグレイデドゥ | クーラー |
| イェ́ンテグレ̀イデドゥ | ・ |
| インテグレーテッド | CPUクーラー |
| イ́ンテグレ̀ーテッド | CPUヒートシンク |
| [形容詞] | Heat Sink |
| 統合した | ヒート・シンク |
| 合成した | 放熱器 |
| ・ | 放熱板 |
| 更新日:2025年 4月 4日 |