| 出典： フォトマスク 『フリー百科事典 ウィキペディア日本語版(Wikipedia)』 最終更新 2017年10月6日 (金) 10:36 UTC、URL: https://ja.wikipedia.org/ フォトマスク（英語：photomask）とは、ガラス乾板とも呼ばれ、電子部品の製造工程で使用されるパターン原版をガラス、石英等に形成した透明な板であり、「フォトリソグラフィ《と呼ばれる転写技術によって電子部品の回路パターン等を被転写対象に転写する際の原版となるものである。半導体素子、フラットパネルディスプレイ、プリント基板といった電子部品の製造工程で、配線層や部品層といった異なる画像を写すために、数枚から数十枚のフォトマスクが使用される。 [製造工程と使用法] フォトマスクに使う基板には、ガラスや合成石英上にクロムを遮光膜として描画図形が形成されるものが多いが、用途によってはエマルジョンマスクと呼ばれる柔軟性のある透明な高分子フィルム上に図形が描かれるものもある。半導体とフラットパネルディスプレイ、プリント基板ではフォトマスクを使った製造工程が多少異なる。・・・ |
| photomask | ガラス乾板 | フォトマスク | |
| mask | マスク | ||
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