出典: CPUの冷却装置 『フリー百科事典 ウィキペディア日本語版(Wikipedia)』 最終更新 2020年10月12日 (月) 17:22 UTC、URL: https://ja.wikipedia.org/ CPUの冷却装置(シーピーユーのれいきゃくそうち)の記事では専ら、「CPUクーラー」と呼ばれているパソコンのCPUの冷却およびその装置について解説する。 [空冷] 強制冷却 冷却ファンを使用し空気を利用して冷却する、最も一般的な方法。ヒートシンクの上に冷却ファンを載せた状態で使用され、ヒートシンクとファンモータが一体化したものが多い。 店頭で販売されているCPU製品にはサーマル・ソリューションと称して、十分な性能の強制空冷式冷却装置が付属している。特に記述がない限り市販されているパーソナルコンピュータにおいて、CPUの冷却にはこの方式が用いられる。 ・・・ |
出典: き・そう【気相】『新村 出編 広辞苑 第五版 CD-ROM版 岩波書店』 物質が気体となっている状態。 |
出典: ヒートスプレッダ 『フリー百科事典 ウィキペディア日本語版(Wikipedia)』 最終更新 2016年10月25日 (火) 14:05 UTC、URL: https://ja.wikipedia.org/ ヒートスプレッダ(英語:heat spreader)は、正式にはインテグレーテッド ヒート スプレッダ(integrated heat spreader、略称:IHS)と呼ばれ、発熱体と放熱器の間に挿入することで緩衝体として放熱効率を高めるための構造を言う。主な用途として、LSIの放熱が挙げられる。 ・・・ |
出典: 化学気相成長 『フリー百科事典 ウィキペディア日本語版(Wikipedia)』 最終更新 2013年11月1日 (金) 16:54 UTC、URL: https://ja.wikipedia.org/ 化学気相成長(かがくきそうせいちょう)、化学気相蒸着(かがくきそうじょうちゃく)または化学蒸着(CVD: chemical vapor deposition)は、さまざまな物質の薄膜を形成する蒸着法のひとつで、石英などで出来た反応管内で加熱した基板物質上に、目的とする薄膜の成分を含む原料ガスを供給し、基板表面あるいは気相での化学反応により膜を堆積する方法である。常圧(大気圧)や加圧した状態での運転が可能な他、化学反応を活性化させる目的で、反応管内を減圧しプラズマなどを発生させる場合もある。切削工具の表面処理や半導体素子の製造工程において一般的に使用される。 ・・・ |
同義語・類義語 | 関連語・その他 |
---|---|
CPUクーラー | heat |
CPUヒートシンク | hiːt |
Heat Sink | ヒートゥ |
hiːt síŋk | ヒート |
ヒートゥ・シィンク | [名詞] |
ヒート シンク | 熱 |
ヒート・シンク | 熱源 |
ヒートシンク | 高温 |
Heatsink | [自動詞] |
ウィック | 熱くなる |
簡易水冷クーラー | ・ |
水冷クーラー | Sink |
吸熱器 | síŋk |
放熱器 | シィンク |
放熱板 | シンク |
CPUの冷却装置 | [自動詞] |
下降する | |
[他動詞] | |
~を下げる | |
・ | |
Heat Pipe | |
hiːt páip | |
ヒート・パイプ | |
液化 | |
作動液 | |
蒸発 | |
毛細管現象 | |
クーラー | |
・ | |
IHS | |
heat spreader | |
integrated heat spreader | |
インテグレーテッド ヒート スプレッダ | |
インテグレーテッド・ヒート・スプレッダ | |
ヒート・スプレッダ | |
更新日:2022年10月18日 |
同義語・類義語 | 関連語・その他 |
---|---|
CVD | vapor |
síː ví: díː | véipər |
シィー ヴィー ディー | ヴェイパゥァー |
シィ́ー ヴィ́ー ディ́ー | ヴェ́イパゥァー |
シー ブイ ディー | ヴェイパー |
シ́ー ブ́イ ディ́ー | ヴェ́イパー |
Chemical Vapor Deposition | [名詞] |
kémikəl véipər dèpəzíʃən | 気化ガス |
ケミカゥルゥ ヴェイパゥァー デパジィシュン | きかガス |
ケミカゥルゥ・ヴェイパゥァー・デパジィシュン | 霧 |
ケ́ミカゥルゥ・ヴェ́イパゥァー・デ̀パジィ́シュン | ガス |
ケミカル ヴェイパー デポジション | 蒸発 |
ケミカル・ヴェイパー・デポジション | 水蒸気 |
ケ́ミカル・ヴェ́イパー・デ̀ポジ́ション | [自動詞] |
化学気相成長 | 蒸発する |
かがくきそうせいちょう | ・ |
化学気相成長法 | Deposition |
化学気相堆積 | dèpəzíʃən |
かがくきそうたいせき | デパジィシュン |
化学蒸着 | デ̀パジィ́シュン |
化学気相蒸着 | デポジション |
かがくきそうじょうちゃく | デ̀ポジ́ション |
・ | [名詞] |
沈殿 | |
ちんでん | |
【 以下関連語 】 | 沈殿物 |
MOCVD | 堆積 |
アトミック・レイヤーCVD | たいせき |
アモルファス・シリコン薄膜 | 堆積物 |
エピタキシャルCVD | |
シリコン酸化膜 | |
シリコン窒化膜 | |
シリコン薄膜 | |
プラズマCVD | |
有機金属気相成長法 | |
光CVD | |
光シーブイディー | |
熱CVD | |
熱シーブイディー | |
・ | |
更新日:2024年 4月25日 |
同義語・類義語 | 関連語・その他 |
---|---|
IHS | Integrated |
heat spreader | íntəgrèitəd |
ヒート スプレッダ | インテグレィディドゥ |
ヒート・スプレッダ | インテグレーテッド |
ヒートスプレッダ | [形容詞] |
integrated heat spreader | 統合した |
íntəgrèitəd hiːt sprɛdɝ | 合成した |
インテグレィディドゥ ヒートゥ スプレダゥー | ・ |
インテグレィディドゥ・ヒートゥ・スプレダゥー | heat |
インテグレーテッド ヒート スプレッダ | hiːt |
インテグレーテッド・ヒート・スプレッダ | ヒートゥ |
ヒート | |
[名詞] | |
熱 | |
熱源 | |
高温 | |
・ | |
spreader | |
sprɛdɝ | |
スプレダゥー | |
スプレッダ | |
[名詞] | |
拡散器 | |
広げる用具 | |
・ | |
Heat Pipe | |
hiːt páip | |
ヒートパイプ | |
作動液 | |
蒸発 | |
毛細管現象 | |
クーラー | |
・ | |
CPUクーラー | |
CPUヒートシンク | |
Heat Sink | |
ヒート・シンク | |
放熱器 | |
放熱板 | |
更新日:2022年 5月14日 |