ICT用語の意味と同義語
【 「シリコン酸化膜」又はそれに関連する用語の意味 】
| 出典: き・そう【気相】『新村 出編 広辞苑 第五版 CD-ROM版 岩波書店』 物質が気体となっている状態。 |
| 出典: 化学気相成長 『フリー百科事典 ウィキペディア日本語版(Wikipedia)』 最終更新 2013年11月1日 (金) 16:54 UTC、URL: https://ja.wikipedia.org/ 化学気相成長（かがくきそうせいちょう）、化学気相蒸着（かがくきそうじょうちゃく）または化学蒸着（CVD: chemical vapor deposition）は、さまざまな物質の薄膜を形成する蒸着法のひとつで、石英などで出来た反応管内で加熱した基板物質上に、目的とする薄膜の成分を含む原料ガスを供給し、基板表面あるいは気相での化学反応により膜を堆積する方法である。常圧（大気圧）や加圧した状態での運転が可能な他、化学反応を活性化させる目的で、反応管内を減圧しプラズマなどを発生させる場合もある。切削工具の表面処理や半導体素子の製造工程において一般的に使用される。 ・・・ |
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化学気相成長 (Wikipedia)
【 シリコン酸化膜 の同義語と関連語 】
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| 同義語・類義語 | 関連語・その他 |
|---|---|
| CVD | vapor |
| síː ví: díː | véipər |
| シィー ヴィー ディー | ヴェイパゥァー |
| シィ́ー ヴィ́ー ディ́ー | ヴェ́イパゥァー |
| シー ブイ ディー | ヴェイパー |
| シ́ー ブ́イ ディ́ー | ヴェ́イパー |
| Chemical Vapor Deposition | [名詞] |
| kémikəl véipər dèpəzíʃən | 気化ガス |
| ケミカゥルゥ ヴェイパゥァー デパジィシュン | きかガス |
| ケミカゥルゥ・ヴェイパゥァー・デパジィシュン | 霧 |
| ケ́ミカゥルゥ・ヴェ́イパゥァー・デ̀パジィ́シュン | ガス |
| ケミカル ヴェイパー デポジション | 蒸発 |
| ケミカル・ヴェイパー・デポジション | 水蒸気 |
| ケ́ミカル・ヴェ́イパー・デ̀ポジ́ション | [自動詞] |
| 化学気相成長 | 蒸発する |
| かがくきそうせいちょう | ・ |
| 化学気相成長法 | Deposition |
| 化学気相堆積 | dèpəzíʃən |
| かがくきそうたいせき | デパジィシュン |
| 化学蒸着 | デ̀パジィ́シュン |
| 化学気相蒸着 | デポジション |
| かがくきそうじょうちゃく | デ̀ポジ́ション |
| ・ | [名詞] |
| 沈殿 | |
| ちんでん | |
| 【 以下関連語 】 | 沈殿物 |
| MOCVD | 堆積 |
| アトミック・レイヤーCVD | たいせき |
| アモルファス・シリコン薄膜 | 堆積物 |
| エピタキシャルCVD | |
| シリコン酸化膜 | |
| シリコン窒化膜 | |
| シリコン薄膜 | |
| プラズマCVD | |
| 有機金属気相成長法 | |
| 光CVD | |
| 光シーブイディー | |
| 熱CVD | |
| 熱シーブイディー | |
| ・ | |
| 更新日:2024年 4月25日 |