ICT用語の意味と同義語
【 「沈殿物」又はそれに関連する用語の意味 】
| 出典: き・そう【気相】『新村 出編 広辞苑 第五版 CD-ROM版 岩波書店』 物質が気体となっている状態。 |
| 出典： 化学気相成長 『フリー百科事典 ウィキペディア日本語版(Wikipedia)』 最終更新 2013年11月1日 (金) 16:54 UTC、URL: https://ja.wikipedia.org/ 化学気相成長（かがくきそうせいちょう）、化学気相蒸着（かがくきそうじょうちゃく）または化学蒸着（CVD: chemical vapor deposition）は、さまざまな物質の薄膜を形成する蒸着法のひとつで、石英などで出来た反応管内で加熱した基板物質上に、目的とする薄膜の成分を含む原料ガスを供給し、基板表面あるいは気相での化学反応により膜を堆積する方法である。常圧（大気圧）や加圧した状態での運転が可能な他、化学反応を活性化させる目的で、反応管内を減圧しプラズマなどを発生させる場合もある。切削工具の表面処理や半導体素子の製造工程において一般的に使用される。 ・・・ |
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化学気相成長 (Wikipedia)
【 沈殿物 の同義語と関連語 】
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| 化学気相成長 | かがくきそうせいちょう | Chemical Vapor Deposition | chemical vapor deposition |
| kémikəl véɪpə dèpəzíʃən | ケミカゥル ヴェイパゥー デパジィシュン | ケミカゥル・ヴェイパゥー・デパジィシュン | ケミカル ヴェイパー デポジション |
| ケミカル・ヴェイパー・デポジション | CVD | síː víː díː | シィー ヴィー ディー |
| シー ブイ ディー | MOCVD | アトミックレイヤーCVD | アモルファスシリコン薄膜 |
| エピタキシャルCVD | シリコン酸化膜 | シリコン窒化膜 | シリコン薄膜 |
| プラズマCVD | 化学気相蒸着 | 化学気相成長法 | 化学蒸着 |
| 有機金属気相成長法 | 光CVD | ||
| 光シーブイディー | 熱CVD | 熱シーブイディー | 【 以下関連語 】 |
| vapor | véipər | ヴェイパゥー | ヴェイパー |
| [名詞] | 気化ガス | 霧 | ガス |
| 蒸発 | 水蒸気 | [自動詞] | 蒸発する |
| ・ | Deposition | dèpəzíʃən | デパジィシュン |
| デポジション | [名詞] | 沈殿 | 沈殿物 |
| 堆積 | 堆積物 | 更新日:2021年 4月 9日 |
